近日，中國(guó)農(nóng)業(yè)科學(xué)院煙草研究所聯(lián)合國(guó)內(nèi)外院校，基于單原子修飾納米材料，利用可見(jiàn)光催化降解技術(shù)，有效減輕了磺酰脲類除草劑對(duì)后茬敏感作物的藥害影響。相關(guān)研究成果發(fā)表在《化學(xué)工程雜志（Chemical Engineering Journal）》上。   　　磺酰脲類除草劑是目前全球使用量最大的除草劑種類之一，被廣泛應(yīng)用于闊葉雜草及禾本科雜草防治。近年來(lái)研究發(fā)現(xiàn)，磺酰脲類除草劑對(duì)煙草、玉米、大豆等作物產(chǎn)生的后茬藥害問(wèn)題嚴(yán)重，但目前仍缺乏高效降解技術(shù)。   　　該研究基于可見(jiàn)光催化技術(shù)，開(kāi)展了磺酰脲類除草劑的降解規(guī)律、降解機(jī)理及毒性評(píng)價(jià)等系列試驗(yàn)。結(jié)果表明，利用氮化碳納米材料可同步實(shí)現(xiàn)多種磺酰脲類除草劑的可見(jiàn)光催化降解，通過(guò)單原子修飾可顯著提高納米材料的性能，目標(biāo)除草劑降解速率提高四倍，結(jié)合理論計(jì)算對(duì)機(jī)理進(jìn)行了深入闡釋，進(jìn)一步證實(shí)該技術(shù)可有效減輕磺酰脲類除草劑對(duì)后茬敏感作物的藥害作用。   　　該研究得到國(guó)家自然科學(xué)基金等項(xiàng)目的資助。
  　　原文鏈接：https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S138589472202914X